紫外臭氧清洗機(jī)是運(yùn)用什么技術(shù)進(jìn)行清洗的？
更新時間：2023-07-27 點(diǎn)擊次數(shù)：1764
紫外臭氧清洗機(jī)是一種簡單，經(jīng)濟(jì)，快速高效的材料表面清洗設(shè)備，能快速去除大多數(shù)無機(jī)基材(比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。
紫外臭氧清洗機(jī)運(yùn)用紫外光清洗技術(shù)通過利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到“原子清潔度”。也就是UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時,由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?85nm波長的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力,并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用?？諝庵械难鯕夥肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而*底清除了黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。
紫外臭氧清洗機(jī)可以去除樣品表面污染，數(shù)分鐘內(nèi)產(chǎn)生超凈表面。它利用高能紫外光源產(chǎn)生臭氧，臭氧將樣品表面的污染物分解為揮發(fā)性化合物。揮發(fā)性化合物從樣品表面蒸發(fā)的痕跡。這種清潔方法可以產(chǎn)生接近原子級的清潔表面，而不會對樣品表面產(chǎn)生損壞。
地址：北京市豐臺區(qū)科興路7號國際企業(yè)孵化中心301室
郵箱：cif_lab@163.com
傳真：86-010-63752028